forbot
Россия
Сильноточное + среднечастотное импульсное магнетронное распыление купить в Томске
Русский
Валюта RUB
Сильноточное + среднечастотное импульсное магнетронное распыление купить в Томске
Купить Сильноточное + среднечастотное импульсное магнетронное распыление
Сильноточное + среднечастотное импульсное магнетронное распыление

Сильноточное + среднечастотное импульсное магнетронное распыление

ID: 24583: 7554214
В наличии
Уточняйте цену у продавца
0UAH
+7(3 
Показать телефоны
Есть вопросы по товару/услуге?
Оставьте запрос, и менеджер компании свяжется с вами.
Россия, Томск
Менее 1 года на Allbiz
Описание
Cущественным недостатком HIPIMS метода является снижение скорости осаждения покрытий по сравнению с традиционными методами распыления на постоянном токе (DCms) или импульсными среднечастотными (MFms). Степень снижения скорости напыления зависит от распыляемого материала и может достигать нескольких десятков процентов [1]. Причиной является притяжение ионизированного распыленного материала назад к катоду [2].
Чем больше степень ионизации распыленного материала, тем сильнее снижается скорость осаждения покрытий. Низкая степень ионизации материала наблюдается для частиц с малым сечением ионизации электронным ударом и высоким потенциалом ионизации, например, углерода (4,5 %). Высокая степень ионизации наблюдается для частиц с большим сечением и низким потенциалом ионизации, например, титана (до 90%) и меди (до 70%).
В свою очередь, недостатком распыления на постоянном токе (DSms) часто является качество формируемых покрытий: недостаточная плотность, высокая пористость и т.д. Низкое качество напыляемого покрытия в значительной степени связано с невысокой концентрации плазмы (109- 1010 см-3) и, как следствие, низкого отношения потока ионов к потоку атомов на подложку (~0.1). Кроме того, плазма, генерируемая в режимах DCms или MFms, характеризуется низкой энергией ионов (1–10 эВ) и представлена в основном газовыми ионами.
Для формирования высококачественных покрытий при высокой скорости осаждения, используется комбинированное питание магнетронной распылительной системы HIPIMS+MF(DC) [3,4]. Комбинированный метод, как можно понять из его названия, параллельно использует импульсное питание высокой мощности и импульсное среднечастотное питание, которое характеризуется относительно невысокой импульсной мощностью, или питание постоянного тока. Результирующие свойства пленок, осажденных данным методом, представляют собой комбинацию свойств пленок, нанесенных в DC и HIPIMS режимах [5,6]. На рис. 1 приведена схема источника питания HIPIMS+MF(DC).
Связаться с продавцом
Сильноточное + среднечастотное импульсное магнетронное распыление
Сильноточное + среднечастотное импульсное магнетронное распыление
Смотрите также товары категории "Элементы бесперебойного питания"
за
по товару
Ваше сообщение должно содержать не меньше 20 символов. Сообщение не может быть больше 2000 символов.
Не заполнено обязательное поле
Неверно заполнено поле
Неверно заполнено поле
Сравнить0
ОчиститьВыбрано позиций: 0